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E2C HP

Variante de alta potência da cabeça de lâmpada E2C da GEW, projetada para baixa migração e/ou aplicações de impressão de alta velocidade.

E2C HP

O E2C HP inclui um cassete de lâmpada UV E2C padrão alojado em uma caixa maior para permitir mais resfriamento do ar e, portanto, maior potência de operação, de até 180 W/cm. Perfeito para aplicações de impressão de baixa migração ou alta velocidade de até 80 cm de largura, ele possui a mesma confiabilidade e designs de refletores patenteados contidos no produto E2C mais popular da GEW.

A E2C HP ainda oferece suporte à impressão na mais ampla variedade de materiais sensíveis ao calor porque nossos refletores refrigerados a ar reduzem a transferência de calor para o substrato. Ele também possui o famoso design de cassete de troca rápida da GEW, permitindo que uma nova lâmpada seja instalada em menos de 2 minutos com apenas 1 chave hexagonal necessária.

A confiabilidade é garantida e, quando alimentado pelo sistema RHINO da GEW, o E2C HP pode ser adquirido com uma garantia de 5 anos, o que significa que não há custos de manutenção não planejados muito além do período de retorno do investimento.

O E2C HP pode ser integrado e personalizado para atender a uma ampla gama de máquinas de impressão e revestimentos. Os engenheiros experientes da GEW ficarão felizes em ajudar a entender melhor suas necessidades.

*Este folheto está em inglês.

E2C HP

Benefícios do E2C HP

  • Alto desempenho – Refletores opticamente ajustados, alto fluxo de ar e baixa emissão de IR se combinam para suportar cura de alta velocidade e baixa migração em substratos sensíveis
  • Menor custo total de propriedade – 45% de economia de energia, economize dezenas de milhares de euros ou dólares ao longo da vida útil de sua máquina, reduza o consumo de ar da fábrica
  • Máxima produtividade da máquina – tecnologia de lâmpada de início rápido, sistema proativamente evita paradas não planejadas, cura consistente e de alta velocidade, instalação rápida
  • Opções flexíveis – lâmpadas dopadas (Fe, Ga), personalização para atender aplicações especializadas, monitoramento UV multiponto
  • Garantia de 5 anos – protege contra custos de manutenção não planejados
  • Pronto para LED – atualize facilmente para cura LED UV no futuro usando a mesma fonte de alimentação híbrida RHINO ArcLED

E2C HP no trabalho


Especificação E2C HP

Potência elétrica máxima180W / cm
Espectro Mercúrio**
Irradiância no ponto focal7.3W / cm²*
Dose típica @ 100m/min165mJ / cm²*
Comprimento máximo80cm
Seção transversal padrão110mm L x 236mm A
ResfriamentoAr
Temperatura operacional máxima padrão40°C (104°F)
Umidade máxima padrãoSem condensação
*Medido em condições de laboratório GEW padrão com uma configuração de cabeçote de lâmpada padrão.
**Variantes de lâmpadas disponíveis sob consulta.

*Este folheto está em inglês.


Compatível com ArcLED

Este vídeo ilustra o processo ArcLED em menos de 1 minuto.

A tecnologia híbrida UV ArcLED permite a troca de uma lâmpada UV Arc ou de um conjunto de LEDs no mesmo invólucro.

Otimize sua prensa com uma mistura de cura Arc e LED em qualquer estação, para máxima flexibilidade.

A GEW detém patentes concedidas cobrindo essa tecnologia internacionalmente desde 2016.

ArcLED - LeoLED2, AeroLED2, E4C, E2C, ExciRay, NUVA2

Para saber mais sobre como os recursos ArcLED da E2C HP podem beneficiar sua empresa, baixe nosso folheto abaixo:

*Este folheto está em inglês.


Assista ao nosso vídeo de estudo de caso

Este vídeo está em inglês.

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